アモルファスGeカルコゲナイド薄膜への銀の光拡散の中性子反射率測定による研究

Investigations on silver photodiffussion into amorphous Ge-chalcogenide films by means of neutron reflectometry

坂口佳史*; 朝岡秀人 ; 川北至信 ; 伊藤崇芳*; 吉田登*; 久保田正人 ; 山崎大 ; 曽山和彦 ; Ailavajhala, M.*; Mitkova, M.*

Sakaguchi, Yoshifumi*; Asaoka, Hidehito; Kawakita, Yukinobu; Ito, Takayoshi*; Yoshida, Noboru*; Kubota, Masato; Yamazaki, Dai; Soyama, Kazuhiko; Ailavajhala, M.*; Mitkova, M.*

アモルファスGeカルコゲナイド/銀の界面において光を照射すると拡散が促進される。非破壊かつ時間分解で観測できるJ-PARC(写楽)の中性子反射率測定を用いて、界面での拡散層の広がりを捉えることに成功し、光拡散機構について議論した。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	日本物理学会第68回年次大会
開催年月	:	2013/03
開催都市	:	東広島
開催国	:	日本
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使用施設	:	J-PARC物質・生命科学実験施設
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