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Development of high resistant anti-reflection coating by using Al$$_{2}$$O$$_{3}$$/SiO$$_{2}$$ multilayer

Al$$_{2}$$O$$_{3}$$/SiO$$_{2}$$多層膜を用いた高耐力コーティング技術の開発

越智 義浩; 永島 圭介; 岡田 大; 田中 桃子; 立野 亮*; 古川 泰之*; 杉山 僚

Ochi, Yoshihiro; Nagashima, Keisuke; Okada, Hajime; Tanaka, Momoko; Tateno, Ryo*; Furukawa, Yasuyuki*; Sugiyama, Akira

Al$$_{2}$$O$$_{3}$$/SiO$$_{2}$$多層膜を用いた無反射(AR)、及び高反射(HR)コーティングの高耐力化に関する技術開発を行った。原子力機構にて設計し、島津製作所にて製膜した無反射コーティングについて、1kHz繰り返しの500psレーザーにて耐力評価を行った結果、平均値として36J/cm$$^{2}$$が得られた。また、高反射コーティングについても同様に設計,製膜を行い7ns, 500ps, 1psのパルス幅のレーザーを用いた耐力評価を行った。得られた結果から、ダメージ発生の素過程についての考察を行った結果等について報告する。

We designed and fabricated high damage-resistant AR coating using Al$$_{2}$$O$$_{3}$$/SiO$$_{2}$$ layers. As a result of irradiation test using 500 ps pulses at 1 kHz, the damage threshold of the AR coating was estimated to be over 36 J/cm$$^{2}$$ (average value). We also fabricated high reflection (HR) mirrors using Al$$_{2}$$O$$_{3}$$/SiO$$_{2}$$ layers added on Ta$$_{2}$$O$$_{5}$$/SiO$$_{2}$$ layers and measured damage threshold of them for 7 ns, 500 ps, and 1 ps pulses.

使用言語

 :

English

掲載資料名

 :

Proceedings of SPIE, Vol.8885

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

p.88851Z_1 - 88851Z_6

発行年月

 :

2013/11

発表会議名

 :

SPIE Laser Damage 2013

開催年月

 :

2013/09

開催都市

 :

Boulder

開催国

 :

U.S.A.

キーワード

 :

no keyword

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1117/12.2030096

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

文部科学省

Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

パーセンタイル：87.01

分野：Optics

Altmetrics

 :

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