関西光科学研究所におけるテラヘルツ光高強度化計画とその現状

Development for intense THz light generation in KPSI

坪内 雅明; 越智 義浩; 田中 桃子; 吉田 芙美子; 永島 圭介

Tsubouchi, Masaaki; Ochi, Yoshihiro; Tanaka, Momoko; Yoshida, Fumiko; Nagashima, Keisuke

現在関西光科学研究所において行われている高強度テラヘルツ光源開発について、テラヘルツ光発生のための励起光源開発、テラヘルツ光発生試験についての現状とその問題点について議論する。また近年開発が進められているテラヘルツパルス光源の産業応用に向けてパルスを自在に整形する技術を開発する必要がある。本研究ではその基盤技術の一つとして、テラヘルツ周波数領域で動作する小型のエタロン素子を開発した。エタロンを構成する高反射板として、シリコン単結晶薄板、及び酸化インジウムスズ薄膜付きガラスの対を用いた。テラヘルツ光をキャビティに入射後、シリコンに紫外光を照射することで光スイッチを動作させ、非常に高い変換効率でTHz光のパルス列化を実現した。

In KPSI, we are developing the intense THz light generation apparatus. In this presentation, we will introduce the current status of the developing the apparatus, including the pump laser system, THz generation and detection system, and so on. The pulse shaping is also important for the practical use of the THz light. As the first step, we have developed the THz etalon with an optical shutter.