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NO dissociation on Cu(111) and Cu$$_{2}$$O(111) surfaces; A Density functional theory based study

銅(111)と酸化銅(111)表面におけるNO分子解離; 密度汎関数理論による研究

Padama, A. A. B.*; 岸 浩史*; Arevalo, R. L.*; Moreno, J. L. V.*; 笠井 秀明*; 谷口 昌司*; 上西 真里*; 田中 裕久*; 西畑 保雄

Padama, A. A. B.*; Kishi, Hirofumi*; Arevalo, R. L.*; Moreno, J. L. V.*; Kasai, Hideaki*; Taniguchi, Masashi*; Uenishi, Mari*; Tanaka, Hirohisa*; Nishihata, Yasuo

Cu(111)表面とCu$$_{2}$$O(111)表面におけるNO分子の解離をスピン分極密度汎関数理論によって調べた。これはNOx還元反応のための銅をベースにした触媒の可能性を探るものである。吸着したNO分子の解離はどちらの表面でも起こる。酸化銅表面では遷移状態を経て反応が進むが、銅表面では途中でNO分子の脱離が起こる可能性があることが分かった。酸化銅の最表面に銅原子を配置することにより電子状態を変化させ、NO分子の吸着解離反応を制御できることが分かった。

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分野:Physics, Condensed Matter

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