Performance of injection beam position monitors in the J-PARC RCS

J-PARC RCSの入射ビーム一モニタの性能

林 直樹  ; Saha, P. K.   ; 外山 毅*

Hayashi, Naoki; Saha, P. K.; Toyama, Takeshi*

シンクロトロンへのビームを入射する際、その位置・軌道の監視は重要である。J-PARCのRCSでは、連続して入射ビームを測定するため、2台の特別なビーム位置モニタが、第1アーク部にある。これらは、リニアック高周波の324MHzまたは、その2倍高調波を検出するが、この高周波成分はリングに入射後、急激に減少する。このため、このモニタは、既に周回しているビーム全体ではなく、入射直後のビームに非常に感度がある。RCSでは、大強度ビームによる空間電荷効果、そしてそれによるビームロス低減のため、多重周回でのペインティング入射(位相空間上の入射位置を時間的に少しずつ移動させる)を採用しているが、このモニタは、横方向ペインティングのプロセスを詳しく観測でき、効率的な入射ビーム調整、運転監視に非常に有用である。

It is important to monitor the injected beam trajectory and position into a synchrotron ring. In the J-PARC RCS, there are two specialized beam position monitors (BPM) in the first arc section in order to perform continuous monitoring. They detect the linac RF frequency 324 MHz or its second harmonics, these contributions quickly decrease after a few turns in the ring. Therefore, they are mostly sensitive just injected beam. The RCS adopts the multi-turn injection and painting. These monitors are useful to check the transverse painting process.