高強度テラヘルツ光発生装置の開発,2; テラヘルツ光発生部

Development of intense THz light source, 2; Generation of THz light

坪内 雅明; 越智 義浩; 田中 桃子; 吉田 芙美子; 永島 圭介

Tsubouchi, Masaaki; Ochi, Yoshihiro; Tanaka, Momoko; Yoshida, Fumiko; Nagashima, Keisuke

現在関西光科学研究所において行われている高強度テラヘルツ光源開発について、テラヘルツ光発生のための励起光源開発、テラヘルツ光発生試験についての現状とその問題点について議論する。また近年開発が進められているテラヘルツパルス光源の産業応用に向けてパルスを自在に整形する技術を開発する必要がある。本研究ではその基盤技術の一つとして、テラヘルツ周波数領域で動作する小型のエタロン素子を開発した。エタロンを構成する高反射板として、シリコン単結晶薄板、及び酸化インジウムスズ薄膜付きガラスの対を用いた。テラヘルツ光をキャビティに入射後、シリコンに紫外光を照射することで光スイッチを動作させ、非常に高い変換効率でTHz光のパルス列化を実現した。

We have developed high repetition (1 kHz) intense THz laser light source for the molecular axis control by non-linear interaction between intense THz light and molecules.