Charge transfer cross sections of slow multiply charged neon ions in collisions with noble gas atoms

希ガスから低速・多重電離ネオンイオンへの電荷移行断面積

日下部 俊男*; 白井 稔三*

Kusakabe, Toshio*; Shirai, Toshizo*

リング状強力永久磁石利用の小型多価イオン源(-EBIS)から、2kVの加速電圧でネオンの2価から6価の多価イオンを引き出し、希ガス原子(Ne, Ar, Kr, Xe)と衝突させ、1電子移行および多電子移行の断面積が成長率法という手法で測定された。Ne+Ar, Kr, XeおよびNe+Ne, Ar, Xeの各衝突系では、5電子移行まで断面積値を導出できた。これらの断面積値の入射イオン価数による依存性について議論される。Ne原子との衝突において、Neイオンの2電子移行、Neイオンの3電子移行、Neイオンの4電子移行は、いわゆる対称共鳴電荷移行過程と呼ばれるが、金子らの文献値と極めて良い一致を得た。

We have measured the single- and multiple-charge transfer cross sections of Ne ions (q = 2 6) in collisions with Ne, Ar, Kr and Xe atoms at 2 kV in acceleration voltage. The multiply charged neon ions were extracted from a compact electron beam ion source called micro-EBIS using a strong ring permanent magnet. The cross sections of charge transfer were determined based on an initial growth rate method. In the Ne + Ar, Kr and Xe, and Ne + Ne, Ar and Xe collisions, five fold-charge transfer cross sections were derived. In the Ne atoms, the double-charge transfer of Ne ions, triple-charge transfer ofNe ions, and four fold-charge transfer of Ne ions are the so-called symmetric resonant charge transfer processes. The present data in these collisions are found to be in good accordance with the previous data of Kaneko et al.