Si(100)-21表面の室温ドライ酸化における分子状吸着酸素の観察

Molecularly chemisorbed oxygen observed in room-temperature oxidation at Si(100)-21 surface

吉越章隆 ; 寺岡有殿; 岡田隆太; 岩井優太郎*; 山田洋一*; 佐々木正洋*

Yoshigoe, Akitaka; Teraoka, Yuden; Okada, Ryuta; Iwai, Yutaro*; Yamada, Yoichi*; Sasaki, Masahiro*

Si(111)-77表面の酸化においてO1s XPSで観測される分子状吸着状態に類似した光電子ピークをSi(100)-21表面の室温酸化においても観測することができたので報告する。

We report on the O 1s photoelectron peak related to moleculalry chemisorbed oxygen in the room-temperature oxidation of an Si(100)-21 surface as observed for the Si(111)-77 surface. surface.

発表言語	:	Japanese
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発表会議名	:	2014年(平成26年)第61回応用物理学会春季学術講演会
開催年月	:	2014/03
開催都市	:	相模原
開催国	:	日本
キーワード	:	no keyword

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使用施設	:	SPring-8(大型放射光施設)
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登録番号 : BB20133188
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