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セシウムスパッター型イオン源によるフラーレン負イオンの新たな生成方法

Novel technique for generating negative fullerene ions using a cesium sputter ion source

千葉 敦也; 薄井 絢; 山田 圭介

Chiba, Atsuya; Usui, Aya; Yamada, Keisuke

TIARAのタンデム加速器による高速フラーレンビームの利用が増加している。しかしながら、スパッター方式による負イオン生成方法では、ビーム強度が極めて低いため研究の進捗の障害となっていた。そこで、既存のイオン源を利用した電子付着方式によるフラーレン負イオン生成方法を開発し、これにより従来の1,000倍の強度のフラーレンビームを長時間安定に得ることに成功した。

Utilization of the swift fullerene ion beam in TIARA using the tandem accelerator tends to increase year after year. However, only a few currents obtained by a generating method of negative ions with a cesium sputtering is hindrance to the progress of study. A generating method of the negative fullerene ions is developed on the basis of an electron attachment. As a result, the method permits us to obtain stable beam intensity more than a thousand-fold compared with that produced by the sputtering method.

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