前山 伸也; 渡邉 智彦*; 井戸村 泰宏 
; 仲田 資季; 矢木 雅敏; 宮戸 直亮; 沼波 政倫*; 石澤 明宏*
Maeyama, Shinya; Watanabe, Tomohiko*; Idomura, Yasuhiro; Nakata, Motoki; Yagi, Masatoshi; Miyato, Naoaki; Nunami, Masanori*; Ishizawa, Akihiro*
IFERC-CSC研究プロジェクトの一つHBGKの平成26年度利用成果を報告する。本プロジェクトでは高ベータ値プラズマにおける電磁的乱流の特性をジャイロ運動論的シミュレーションを用いて解析した。これにより、プラズマ形状により乱流輸送レベルが遷移する閾値圧力が変化すること、および高圧プラズマにおいて電子スケール乱流の影響によるイオンスケール乱流強度の増大が起こることを新たに発見した。
no abstracts in English
使用言語 |
: | Japanese |
|---|---|---|
掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | |
号 |
: | |
ページ数 |
: | |
発行年月 |
: | |
発表会議名 |
: | |
開催年月 |
: | 2015/02 |
開催都市 |
: | 東京 |
開催国 |
: | 日本 |
キーワード |
: | no keyword |
論文URL |
: |
|
|---|---|---|
論文解説記事 |
: | |
受委託・共同研究相手機関 |
: |
Access |
: |
- Accesses |
|---|---|---|
Altmetrics |
: |
[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.
被引用回数：