EUV光源ターゲットとレーザー光の相互作用のモデル化

Modeling of laser and target interaction in the plasma EUV sources

佐々木 明; 砂原 淳*; 西原 功修*

Sasaki, Akira; Sunahara, Atsushi*; Nishihara, Katsunobu*

現在、次世代半導体リソグラフィ用EUV光源の実用化の高出力化や、将来に向けた短波長化の研究が進められている。これまでの研究により、プリパルスレーザーで液滴ターゲットを微粒子に分散し、それをメインパルスレーザーでプラズマ化、加熱する方法が、高効率を得るために有効なことが示されている。しかし、そのようなプラズマおよびレーザーと物質の相互作用は、従来のレーザープラズマのシミュレーションで想定しているものと異なると考えられ、マクロな流体シミュレーションに気液相転移を取り入れる手法について検討を行っている。2次元のラグランジ流体モデルにおいて、メッシュの任意の分割、融合のアルゴリズムを導入し、物質が自発的に気相と液相に分離する過程をモデル化し、スズの蒸気、プラズマと液体のクラスタが共存しながら膨張する過程、そのような物質中のレーザーの伝播, 吸収, 加熱過程のモデル化手法について検討する。

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