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ジグリコールアミド溶媒抽出におけるコンプレクサンによるマスキングの効果

Masking effect of complexan on the solvent extraction with diglycolamide

森田 圭介 ; 佐々木 祐二  ; 鈴木 智也

Morita, Keisuke; Sasaki, Yuji; Suzuki, Tomoya

${it N}$,${it N}$,${it N}$',${it N}$'-テトラオクチルジグリコールアミド(TODGA)はランタノイド(Ln), アクチノイド(An)に対して高い抽出能を持つ。Ln/Anの相互分離能の向上を目的として、マスキング剤としてEDTA, DTPAおよびそれらのbisamide誘導体を用いると、bisamide誘導体はより酸性領域からマスキング作用を発揮した。マスキング反応について詳細に検討を行った結果を報告する。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

日本原子力学会2015年春の年会

開催年月

 :

2015/03

開催都市

 :

日立

開催国

 :

日本

キーワード

 :

ジグリコールアミド; 溶媒抽出; ランタノイド; コンプレクサン

特許データ

 :

PDF

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論文URL

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研究データの公開先DOI

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使用施設

 :

第4研究棟  

広報プレスリリース

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