中性子反射率法による埋もれた界面の構造評価

Structural analysis of buried interfaces by neutron reflectometry

中性子反射率法は、ナノスケールの多層構造物質中に埋もれた界面の非破壊的な構造解析手法である。講演ではJ-PARCに設置されている磁性多層膜の構造解析に有効な偏極中性子反射率計の概要と測定例を紹介する。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	日本磁気学会第200回研究会/第51回化合物新磁性材料専門研究会
開催年月	:	2015/01
開催都市	:	東海
開催国	:	日本
キーワード	:	中性子反射率法; 偏極中性子; 磁性薄膜; 磁性多層膜; 磁気構造解析; スピントロニクス

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使用施設	:	J-PARC物質・生命科学実験施設
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登録番号 : BB20142914
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