軟X線レーザーの集光照射による表面ナノ加工

Nano-meter scale surface modifications by focused soft X-ray laser pulses

石野 雅彦; 圓山 桃子; 長谷川 登; 錦野 将元; 保 智己*; Faenov, A.*; Pikuz, T.*; 河内 哲哉; 山極 満

Ishino, Masahiko; Maruyama, Momoko; Hasegawa, Noboru; Nishikino, Masaharu; Tamotsu, Satoshi*; Faenov, A.*; Pikuz, T.*; Kawachi, Tetsuya; Yamagiwa, Mitsuru

短パルス高強度レーザーを物質表面に集光照射するとアブレーションによって損傷構造が形成される。現在までに我々は、波長13.9nmの軟X線レーザーパルスを物質表面に集光照射すると、他のレーザーに比べて低いフルーエンスでもアブレーションが起こり、ナノメートルオーダーの微細構造が形成されることを見出した。軟X線レーザーによるアブレーションを利用することによって、従来よりも高効率で物質表面に微細加工が可能となると期待できる。発表では軟X線レーザーによって物質表面で起こるアブレーション機構とアブレーションによって形成される特異なナノ構造の応用の可能性についての考察を行う。

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