中性子を使って非破壊で埋もれた界面を観る

Investigation of buried interfaces by neutrons

中性子反射率法は、ナノスケールの多層構造物質中に埋もれた界面の構造を調べることのできる非破壊的な構造解析手法である。その応用範囲は、磁性多層膜、高分子多層膜、生体膜、接着界面、電極界面など応用上重要なもの多岐に及ぶ。本講演では、中性子反射率法で何がわかるのかを具体的に紹介するとともに、日本原子力研究開発機構が有する2台の中性子反射率計について紹介する。

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使用言語	:	Japanese
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発行年月	:
発表会議名	:	六ヶ所・核燃料サイクルセミナー; 核燃料サイクルの先端研究開発
開催年月	:	2015/07
開催都市	:	六ヶ所
開催国	:	日本
キーワード	:	中性子反射率法; 多層膜; 埋もれた界面; 非破壊構造解析手法; 薄膜デバイス

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使用施設	:	J-PARC物質・生命科学実験施設 ;JRR-3実験利用棟(第2棟)
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Access	:	- Accesses
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登録番号 : BB20150986
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