SNICSによるフラーレン負イオンの生成

Generation of negative fullerene ions using SNICS ion source

Chiba, Atsuya; Usui, Aya; Yamada, Keisuke

タンデム加速器の既設の負イオン源であるセシウムスパッターイオン源(SNICSII;米国NEC製)を用いた電子付着方式による高強度フラーレン(C $_{60}$ )負イオン生成法の開発を行っている。本方式は、アイオナイザーから放出される熱電子をオーブンで昇華したC $_{60}$ に付着させ負イオン化するため、従来の生成法のようにスパッターによる解離を伴わず、効率よくC $_{60}$ 負イオンが生成される。本方式により、これまでに従来の1,000倍の強度を達成しているが、イオン化チャンバー内の電子密度を増すことで更なる高強度化が望めることから、チャンバー内にタングステンフィラメントを設置し、そこから放出される熱電子も併用する方式を試みた。その結果、生成量を更に1桁増強させることに成功した。

no abstracts in English

使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	第28回タンデム加速器及びその周辺技術の研究会報告集
巻	:
号	:
ページ数	:	p.53 - 56
発行年月	:	2015/12
発表会議名	:	第28回タンデム加速器及びその周辺技術の研究会
開催年月	:	2015/07
開催都市	:	仙台
開催国	:	日本
キーワード	:	フラーレン負イオン; 電子付着; イオン源

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:
研究データの公開先DOI	:
使用施設	:
広報プレスリリース	:
論文解説記事 (成果普及情報誌)	:
受委託・共同研究相手機関	:

Access	:	- Accesses
Web of Science® Times Cited Count	:	被引用回数：評価・統計等のため最新の被引用回数を確認したい場合は、直接Web of Science®をご確認ください。 http://www.webofknowledge.com/wos
InCites™	:
Altmetrics	:

登録番号 : BB20151266
抄録集掲載番号 : 45000960
論文投稿番号 : 19204

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.