次世代リソグラフィ用EUV光源におけるレーザー照射によるターゲット物質の分散、微粒子生成過程のモデリング

Modeling of particle emission from laser irradiated Sn target for EUV source for lithographic technology

EUV光源の高効率化, 高出力化のために、低強度のプリパルスレーザーでSn液滴ターゲットを照射して微粒子に分散する方法が考えられている。レーザーでターゲットを照射して、固体物質が加熱され、溶融、蒸発して噴出するレーザーアブレーションの過程は、液相内部に気泡が存在する気泡流の状態、気泡が成長、合体して気相内に液相の噴霧流の状態を経ると考えられ、プラズマが生成するとともに、しばしば粒子が放出されることが知られている。本発表では、ラグランジメッシュを用いた2次元流体シミュレーションにおいて、任意にメッシュを再配置することにより、気泡, クラスタの分布とそれを含む流れを直接計算するモデルの構築を試みているので報告する。

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使用言語	:	Japanese
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発行年月	:
発表会議名	:	日本物理学会2015年秋季大会(物性)
開催年月	:	2015/09
開催都市	:	吹田
開催国	:	日本
キーワード	:	EUV光源; シミュレーション; レーザープラズマ; 輻射流体力学; シミュレーション; 状態方程式; 相転移; 混相流

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受委託・共同研究相手機関	:	ギガフォトン

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登録番号 : BB20151581
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