電着法により創製したニッケルナノ結晶薄膜の微視構造のX線評価

Microstructural characterization of electrodeposited nanocrystalline nickel films by X-ray diffraction

田中 啓介*; 小池 裕基*; 佐野 勝基*; 田中 浩人*; 町屋 修太郎*; 菖蒲 敬久  ; 來海 博央*

Tanaka, Keisuke*; Koike, Yuki*; Sano, Katsuki*; Tanaka, Hiroto*; Machiya, Shutaro*; Shobu, Takahisa; Kimachi, Hirohisa*

スルファミン酸ニッケル浴を用いて種々の電着条件でナノ結晶ニッケルを創製し、その結晶粒径分布を、放射光を利用したX線法と透過電子顕微鏡法で計測した。その結果、(1)111-222回折ペアよりフーリエ解析で求めた粒径は、200配向膜においては、200-400ペアより求めた値より小さく、ランダム配向膜で大きくなる、(2)TEMより求めた粒径分布は対数正規分布に従い、粒径分布の分散は粒径が小さいほうが小さい、(3)111-222ペアより求めた粒径が30nm程度以下の領域では、TEMによる分布とほぼ一致する、(4)111回折を用いてシェラー法により簡便評価した粒径は111-222ペアを用いたフーリエ解析による結果に近く、粒径40nm程度以下ではTEMによる平均結晶粒径とほぼ一致する、等を明らかにした。

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