ウランの還元と析出反応の関係

The Relationship between reduction and deposition of uranium

大内 和希  ; 音部 治幹  ; 北辻 章浩  

Ouchi, Kazuki; Otobe, Haruyoshi; Kitatsuji, Yoshihiro

pH4におけるU(VI)からU(V)への還元反応に伴い電極表面に形成するU(IV)析出物を電気化学水晶振動マイクロバランスにより測定した。6価から4価への電解還元の電気量と析出量の関係から、反応は析出開始後2段階で進行し、一段階目ではウラン水酸化物(U(OH))、二段階目ではウラン酸化物(UO)が析出していることが分かった。以上より、この析出反応は、中間体として水酸化物が形成し脱水により酸化物へ状態変化する機構が示唆される。

We investigated the relationship between the quantity of electricity of electrolytic reduction of U(VI) to U(IV) and the deposition on the electrode surface by measuring electrochemical quartz crystal microbalance of U(IV) deposits following the electrolytic reduction of U(VI) to U(V) in a pH4 solution. We found that the deposition can be divided into the two phases after starting deposition according to variation between electric quantity and deposition amount. This variation indicates that the species of deposits in first and second phase are highly likely to be U(IV) hydroxide (U(OH)) and UO, respectively. From this result, we propose the deposition mechanism that a U hydroxide forms as an intermediate and transforms to U oxide as a terminal product.