偏極中性子反射率法による磁性多層膜の磁気構造解析

Analysis of magnetic structures in magnetic multilayers using the polarized neutron reflectometry

一般に固体, 液体, 気体に限らず、異なる物質が接する界面は様々な機能発現の場であり、その機能と界面構造が密接に結びついている。スピントロニクスに関係する巨大磁気抵抗効果や交換磁気異方性も数nmから数10nmの厚さの強磁性薄膜と非磁性薄膜、あるいは、反強磁性薄膜との間の接合界面で起こる現象である。中性子をプローブとする反射率法は、磁気構造も含むこれらの磁性多層膜の厚さ方向の構造変化を非破壊的に知ることのできる優れた実験手法であり、中性子反射率法による数多くの磁性多層膜の研究が行われてきた。本講演、偏極中性子反射率法の原理を説明するとともに、典型的な実験例をいくつか示した後、国内で利用することが可能な中性子反射率計について紹介する。

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使用言語	:	Japanese
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発行年月	:
発表会議名	:	平成29年度磁性材料研究会
開催年月	:	2017/10
開催都市	:	東京
開催国	:	日本
キーワード	:	偏極中性子反射率法; スピントロニクス; 磁性多層膜; 非破壊構造解析

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使用施設	:	JRR-3M(研究炉3) ;J-PARC物質・生命科学実験施設
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登録番号 : BB20171338
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