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液体電極プラズマ発光分光法による再処理工程試料中の金属元素の分析技術開発,3; 再処理工程内試料中のテクネチウムの定量

Development of analytical methods for metal elements in reprocessing solution by optical emission spectrometry based on liquid electrode plasma, 3; Determination of technetium in reprocessing process solution

山本 昌彦   ; Do, V. K.  ; 田口 茂郎 ; 稲田 聡; 高村 禅*; 久野 剛彦 

Yamamoto, Masahiko; Do, V. K.; Taguchi, Shigeo; Inada, Satoshi; Takamura, Yuzuru*; Kuno, Takehiko

本研究では、発光分光分析装置の小型化に有効な液体電極プラズマに着目し、これに基づく発光分光分析法(LEP-OES)により再処理工程試料中のテクネチウム(Tc)の定量を試みた。測定条件として、印加電圧、パルス出力のシーケンス、及び硝酸濃度の影響を調査した結果、印加電圧1000V、パルス幅2ms、パルス間隔8ms、パルス回数50回、硝酸濃度0.4Mで、最も再現性良く、強度の高いTcピークが得られることがわかった。また、Tcの254.3nm、261.0nm、264.7nmのピークについて、再処理工程試料中に共存する元素によるスペクトル干渉を調査した。その結果、254.3nm、261.0nmのピークでは鉄による干渉が見られたが、264.7nmでは干渉は確認されず、このピークを用いることでTcを定量可能であることがわかった。

In this research, we focused on liquid electrode plasma optical emission spectrometry(LEP-OES), which is effective method to minimize the analytical device, to determine technetium (Tc) in reprocessing solution. Measurement conditions such as applied voltage, output pulse sequence and nitric acid concentration were optimized. Consequently, measurement condition at voltage of 1000V, pulse width of 2ms, pulse interval of 8ms, pulse number of 50 and nitric acid concentration of 0.4M offers the high peak intensity with good reproducibility. Also, interference of coexisting elements in sample from reprocessing steam was investigated for Tc peak at 254.3nm, 261.0nm, 264.7nm. The spectral interference of iron was observed at Tc peak of 254.3nm and 261.0nm although no spectral interference were observed at 264.7nm peak. It was found that determination of Tc by LEP-OES can be possible using this peak.

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