検索対象:     
報告書番号:
※ 半角英数字
 年 ~ 
 年

Si(110)上酸化膜の還元領域の観測

Observation of reduction area of oxide layer on Si(110)

矢野 雅大   ; 魚住 雄輝*; 保田 諭   ; 朝岡 秀人  

Yano, Masahiro; Uozumi, Yuki*; Yasuda, Satoshi; Asaoka, Hidehito

Si(110)上から酸化膜が脱離する過程の構造および電子状態を走査型トンネル顕微鏡(STM)とX線光電子分光(XPS)でそれぞれ計測した。この結果から、Si(110)から酸化膜が還元する過程で生じる中間状態の領域の発見し、Si上酸化膜分解の反応ダイナミクス解明につながる知見が得られた。

no abstracts in English

Access

:

- Accesses

InCites™

:

Altmetrics

:

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.