中性子とめっき膜評価との接点

Structural analyses of plating films using neutron

中性子はミクロな構造解析のためのプローブとして、X線(放射光)にはない特徴を持つ。表面技術協会表面技術とものづくり研究部会が研究対象とするめっき膜に対しても、中性子回折法による結晶構造解析、中性子反射率法による、薄膜の表面・界面の構造(磁気構造を含む)は有用である。講演では、めっき膜の構造解析手法の側面に焦点をあて、両手法の紹介を行う。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	表面技術とものづくり研究部会第23回例会(見学・講演会)
開催年月	:	2018/10
開催都市	:	東京
開催国	:	日本
キーワード	:	薄膜; 表面・界面; 中性子; めっき膜; 構造解析

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使用施設	:	JRR-3M(研究炉3) ;J-PARC物質・生命科学実験施設
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登録番号 : BB20181156
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