2 m2m未満のAMS装置のための表面ストリッパーの検討Matsubara, Akihiro; Fujita, Natsuko; Kimura, Kenji
設置面積2m2m未満に
C-AMS装置を小型化する場合、従来の妨害分子の除去法であるガスストリッパーでは真空条件の悪化によりバックグラウンドが高まるという問題が生じる。われわれは、ガスを使用しないストリッパーとしてイオンと固体表面の相互作用を基にしたいわば、表面ストリッパーを提案した。本法の実用化に向けた初期的な取り組みとして、Cがテルル化スズの単結晶に入射した際の鏡面反射軌道を数値的に求めた。入射エネルギーが45keV、入射角度が1.5
の場合、軌道に沿って積分された電子密度は、従来のガスストリッパーでの妨害分子の除去に十分とされるヘリウムガスの0.4
g/cm
のそれに相当することが分かった。これは、本方法がガスストリッパーに匹敵する妨害分子の除去機能があることを示唆する。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
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号 |
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ページ数 |
: | p.57 - 59 |
発行年月 |
: | 2020/00 |
発表会議名 |
: | 8th East Asia Accelerator Mass Spectrometry Symposium (EA-AMS 8) |
開催年月 |
: | 2019/12 |
開催都市 |
: | Nagoya |
開催国 |
: | Japan |
キーワード |
: | Downsized AMS system; Gas Free Stripper; Surface Stripper; Specular Reflection; Grazing Incidence |
論文URL |
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使用施設 |
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論文解説記事 |
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Access |
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Altmetrics |
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