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Effects of the Montague resonance on the formation of the beam distribution during multiturn injection painting in a high-intensity proton ring

大強度陽子リングにおいてモンタギュー共鳴がペイント入射中のビーム分布の形成に及ぼす影響

發知 英明  

Hotchi, Hideaki

J-PARC RCSのベータトロン振動数は2Qx-2Qy=0共鳴(モンタギュー共鳴)の近傍に設定されている。この共鳴は、ビーム自身が作る非線形な空間電場によって励起され、水平・鉛直間のエミッタンス交換を通して付加的な分布変動を引き起こす。そのため、この共鳴は、ペイント入射後のビームの分布形状に大きな影響を及ぼすことになる。数値シミュレーションと実験結果との詳細比較から、2Qx-2Qy=0共鳴がペイント範囲やペイント経路の取り方に依存して複数の異なった効果をビームに及ぼしていることが明らかとなった。本論文では、2Qx-2Qy=0共鳴によって生じる特徴的なビーム粒子の振る舞いを議論すると共に、その検討結果に基づいて、新たなペイント入射方式を提案する。

no abstracts in English

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パーセンタイル:59.56

分野:Physics, Nuclear

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