Positron annihilation studies of defect structure of (TiZrHfNbV)N nitride coatings under Xe 200 MeV ion irradiation

200MeV Xe照射下における(TiZrHfNbV)N窒化物コーティング材の欠陥構造についての陽電子消滅分光法の研究

Pogrebnjak, A. D.*; Bagdasaryan, A. A.*; Horodeck, P.*; Tarelnyk, V.*; Buranich, V. V.*; 雨倉 宏*; 大久保 成彰   ; 石川 法人   ; Beresnev, V. M.*

Pogrebnjak, A. D.*; Bagdasaryan, A. A.*; Horodeck, P.*; Tarelnyk, V.*; Buranich, V. V.*; Amekura, Hiroshi*; Okubo, Nariaki; Ishikawa, Norito; Beresnev, V. M.*

ハイエントロピー合金ベースの(TiZrHfNbV)N窒化物コーティング材に高速重イオン(200MeV Xeイオンビーム)を照射し、陽電子消滅分光法を用いて照射影響を解析した。その結果、照射欠陥のうち、空孔が主な欠陥種であることが分かった。また、510 ions/cmの高照射量まで照射しても非晶質化や金属間化合物の形成は、検知されなかった。ハイエントロピー合金の高い耐照射性を示す結果となった。

Positron annihilation spectroscopy (PAS) of ion-irradiated (TiZrHfNbV)N nitride which is a high-entropy alloy-based material indicates that the vacancy-defects are the dominant defects type. Although the specimens are irradiated up to 510 ions/cm no amorphization or intermetallic phase formation is detected after the irradiation, demonstrating the radiation tolerance of the high-entropy alloys.