Metallization and pressure-induced superconductivity in carrier doped excitonic insulator (Ta
Ti
)
NiSe
キャリアドープした励起子絶縁体(Ta
Ti
)
NiSe
の金属化と圧力誘起超伝導
土田 駿*; 廣瀬 雄介; 関川 卓也; 大野 義章*; 平原 卓也*; 佐野 純佳*; 河口 彰吾*; 小林 慎太郎*; 上床 美也*; 摂待 力生*
Tsuchida, Shun*; Hirose, Yusuke; Sekikawa, Takuya; Ono, Yoshiaki*; Hirahara, Takuya*; Sano, Sumika*; Kawaguchi, Shogo*; Kobayashi, Shintaro*; Uwatoko, Yoshiya*; Settai, Rikio*
本研究では、励起子絶縁体Ta
NiSe
へのキャリアドープ効果を調べるために、(Ta
Ti
)
NiSe
の単結晶合成し、電気抵抗
ホール係数
およびバンド計算を行った。TaサイトのTi元素置換により、結晶構造は変化せず励起子絶縁体転移温度
は連続的に抑制され
=0.104で83Kまで抑制された。置換量
を増やしていくと、半導体的な
や
の低温での増大が著しく抑制され、
では金属的な振る舞いに変わることを見出し、励起子相関のある金属状態が実現されている可能性がある。この金属化はバンド計算により、キャリアドーピング効果によって説明できる。このキャリアドープ物質を加圧していくと、2.6GPa以上で超伝導となることを明らかにした。この圧力は母物質Ta
NiSe
の圧力誘起超伝導が現れる8GPaよりもはるかに小さく、Ti置換によるキャリアドープが超伝導に有利に働いたと考えられる。
We investigated the carrier doping effect on an excitonic insulator Ta
NiSe
by means of the electrical resistivity
and Hall coefficient
using single crystals of (Ta
Ti
)
NiSe
, and band calculation. The excitonic transition temperature
is continuously suppressed to 83 K at
= 0.104 while preserving the crystal structure. With increasing substitution concentration
, a semiconducting increment of
and
is strongly suppressed and a metallic behavior is observed at
> 0.06. Ti substitution can realize an excitonic correlated metallic state. This metallization is explained by the hole doping effect based on the band calculations. Applying pressure to the carrier doped (Ta
Ti
)
NiSe
, we found superconductivity above 2.6 GPa, which is much smaller than that of Ta
NiSe
around 8 GPa. The carrier doping induced by Ti substitution favors superconductivity in this compound.