本レビューでは、物質の最表面層に極めて高感度な構造決定法である全反射高速陽電子回折(TRHEPD)を用いて得られた、グラフェンの層間距離変化に関する最近の研究成果を包括的にまとめて報告する。ここでは、TRHEPDがグラフェンー基板系における層間距離の変化をどのように分解できるかを示すとともに、インターカレーションおよび準結晶化がグラフェンの電子的・熱的振る舞いを変容させるメカニズムに関する貴重な知見を提供する。
no abstracts in English
発表言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
: | 38 |
号 |
: | 29 |
ページ数 |
: | p.293004_1 - 293004_17 |
発行年月 |
: | 2026/07 |
キーワード |
: | no keyword |
論文URL |
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論文解説 |
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Access |
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- Accesses |
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Altmetrics |
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