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Sputtering of high ${it Tc}$ superconductor YBa$$_{2}$$Cu$$_{3}$$O$$_{7-delta}$$ by high energy heavy ions

高エネルギー重イオンによる高温超伝導体YBa$$_{2}$$Cu$$_{3}$$O$$_{7-delta}$$のスパッタリング

松波 紀明*; 左高 正雄; 岩瀬 彰宏

Matsunami, Noriaki*; Sataka, Masao; Iwase, Akihiro

高エネルギー重イオン照射による高温超伝導体中の電子励起効果を研究するため、東海研タンデム加速器からの重イオンを用いてスパッタリング測定を行った。スパッタリング測定はイオン照射による電子変位の直接測定の一つであり、放射線損傷と密接な関連がある。MgO上の約100nmの結晶を200MeVのヨウ素イオンで照射し、放出粒子を試料の直前に置いた炭素薄膜で補修し、その補修量に基づきスパッタリング収量を求めた。収量は約600の値を持ち、TRIMによる弾性散乱による収量の計算値と比較した結果、約1000倍であり、著しい電子励起効果が得られた。

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