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Silicon cluster formation by molecular ion irradiation; Relationship between iradiated ion species and cluster yield

分子イオン照射によるSiクラスター生成; 照射イオン種とクラスター収量との関係

山本 博之; 斉藤 健; 朝岡 秀人

Yamamoto, Hiroyuki; Saito, Takeru; Asaoka, Hidehito

分子イオンを固体表面に照射した場合、原子イオンに比べてはるかに低い照射密度において顕著なクラスター放出がみられる。本研究においては、種々のイオンをSi表面に照射し、放出された粒子の質量を分析することにより照射イオン種とクラスター生成効率との関係について検討した。この結果、分子イオンを一定速度で照射した場合、SF$$_{5}^{+}$$はSF$$^{+}$$に比べて最大100倍程度のクラスター強度となるのに対し、原子イオンでこれらと同程度の質量であるXe$$^{+}$$とAr$$^{+}$$の場合はクラスター強度の差はこれほど顕著とはならなかった。これはクラスター生成において照射イオンの質量よりもその径が大きく影響するためと考えられる。

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パーセンタイル:71.05

分野:Chemistry, Physical

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