代表出願国 |
: | 日本 |
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出願番号 |
: | 2009-264740 |
公開番号 |
: | 2011-105567 |
登録番号 |
: | 5598900 |
出願日 |
: | 2009/11/20 |
公開日 |
: | 2011/06/02 |
登録日 |
: | 2014/08/22 |
IPC |
: | G21G 4/08 (2006.01):C22B 3/26 (2006.01):C22B 60/00 (2006.01):B01D 59/24 (2006.01) |
関連特許 |
: | 【99Mo-99mTcジェネレータ用Mo吸着剤およびその製造方法(特開平8-309182)】【99Mo-99mTcジェネレータ用Mo吸着剤およびその製造方法(特開平10-30027)】 |
関連文献 |
: | 【H.A.El-Asrag, et.al., Microchemical Journal 23, 42-50(1978).】【R.E.Boyd, Int.J.Appl.Radiat.Isot, 33, 801-809(1982).】【M.W.Billinghust, et.al., Int.J.Appl.Radiat.Isot, 43, 1045-1049(1992).】 |
公開特許公報 |
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特許公報 |
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Access From 2021.3.1 |
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- Accesses |
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