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薄膜インダクタ素子、薄膜可変インダクタ素子及び積層薄膜素子の使用方法

荒木 康史; 家田 淳一

山根 結太*; 深見 俊輔*

【課題】 電気回路内に実装するに際して、動作電流を小さくしつつも、十分な創発インダクタ機能を発現できる薄膜インダクタ素子を提供することを目的とする。 【解決手段】 磁性体層と、非磁性体層と、が積層された積層膜と、一対の電極を備え、前記磁性体層と前記非磁性体層は、積層方向と直交する方向で任意の形状で延伸され、前記磁性体層は、積層方向成分を含む略一様な磁化構造を有しており、前記非磁性体層は、絶縁体であり、かつその表面が導電可能な構造であり、前記一対の電極は、前記積層膜が延伸される両端近傍であり、少なくとも前記非磁性体層の表面に接する位置に設けられ、1KHZ~1GHZの周波数で変調する電流が印加されるものであることを特徴とする薄膜インダクタ素子。

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From 2021.3.1

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