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水素分離膜構造体の中間層の製膜方法及び水素分離膜構造体

野口 弘喜; Myagmarjav, O.

今 肇*

【課題】水素分離膜構造体の製造において、製膜時の液だれ等によりコーティングのムラ、膜厚の厚い部分の剥離、クラック等の発生を防止する。 【解決手段】水素分離膜構造体の基材である多孔質支持体層を回転させながら、ゾルゲル溶液に多孔質支持体層の表面部分のみを浸漬させ、多孔質支持体層の表面にゾルゲル溶液を塗布する。

代表出願国

 :

日本

出願番号

 :

2022-206638

公開番号

 :

2024-090630

登録番号

 :

出願日

 :

2022/12/23

公開日

 :

2024/07/04

登録日

 :

PCT出願番号

 :

PCT登録番号

 :

EPC出願番号

 :

EPC登録番号

 :

IPC

 :

B01D 67/00 (2006.01):B01D 69/10 (2006.01):B01D 69/12 (2006.01):B01D 71/02 (2006.01)

関連特許

 :

特開2017-170435(分離膜及び分離方法)

関連文献

 :

O.Myagmarjav, etc., Development of a membrane reactor with a closed-end silica membrane for nuclear-heated hydrogen production, Progress in Nuclear Energy 137, 103772(2021)

公開特許公報

 :

P53720A.pdf

特許公報

 :

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データベース

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説
(JAEA R&D Navigator)

 :

Access

From 2021.3.1

 :

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