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薄膜インダクタ素子、薄膜可変インダクタ素子及び積層薄膜素子の使用方法

荒木 康史; 家田 淳一

山根 結太*; 深見 俊輔*

電気回路内に実装するに際して、動作電流を小さくしつつも、十分な創発インダクタ機能を発現できる薄膜インダクタ素子を提供することを目的とする。 磁性体層と、非磁性体層と、が積層された積層膜と、一対の電極を備え、前記磁性体層と前記非磁性体層は、積層方向と直交する方向で任意の形状で延伸され、前記磁性体層は、積層方向成分を含む略一様な磁化構造を有しており、前記非磁性体層は、絶縁体であり、かつその表面が導電可能な構造であり、前記一対の電極は、前記積層膜が延伸される両端近傍であり、少なくとも前記非磁性体層の表面に接する位置に設けられ、1KHZ~1GHZの周波数で変調する電流が印加されるものであることを特徴とする薄膜インダクタ素子。

代表出願国

 :

アメリカ合衆国

出願番号

 :

19/130104

公開番号

 :

WO2024/105907

登録番号

 :

出願日

 :

2023/05/26

公開日

 :

2024/05/23

登録日

 :

PCT出願番号

 :

PCT/JP2023/019706

PCT登録番号

 :

EPC出願番号

 :

EPC登録番号

 :

IPC

 :

H01L 29/82 (2006.01):H01F 10/28 (2006.01):H01L 21/822(2006.01):H01L 27/04 (2006.01):H10N 52/85 (2023.01)

関連特許

 :

関連文献

 :

公開特許公報

 :

P54000A.pdf

特許公報

 :

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 :

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 :

論文解説
(JAEA R&D Navigator)

 :

Access

From 2021.3.1

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