NI基耐熱合金への耐熱セラミックス薄膜の被覆層の形成方法

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【課題】分子、原子状態の核分裂生成粉物(FP)の吸着や拡散の高温における防止策はなかった。そのため、これらの機器の保守点検時には、作業員のFPによる被曝が問題となっていた。200℃以下の場合には、紙やチフロン製のフィルターによりFPの除去が現行技術で行われている。【解決手段】NI基耐熱合金材料表面に形成された耐熱セラミック被覆膜に核分裂により生じた放射性核種(FP)をプレートアウト(凝着・付着)することにより、FPと金属材料との化学反応をふせぐとともにFPの拡散を防ぐ。

Representative country of application	:	日本
Application number	:	H15-154194
Publication number	:	H16-353057
Patent number	:	4496361
Date of filing	:	2003/05/30
Date of publication	:	2004/12/16
Date of patent	:	2010/04/23
PCT application number	:
PCT patent number	:
EPC application number	:
EPC patent number	:
International patent classification	:	G21D 1/00 (2006.01):C23C 14/08 (2006.01):C22C 19/03 (2006.01):G21F 9/00 (2006.01):C23C 30/00 (2006.01)
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Published unexamined patent application	:	P1/P6191A.pdfP6191A.pdf
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Press Release	:
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