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口頭

その場重イオンRBSによる電子励起ミクシングの評価

林 伯尚*; 松田 誠; 遊津 拓洋; 左高 正雄; 岩瀬 彰宏*

no journal, , 

タンデム加速器では新たな加速器利用法を創成するため、2種のイオンを短時間(数分)で交互に加速するシステムを開発した。この開発の一例として、一つのイオンで物質の改質を行い、もう一つのイオンでその改質の評価をその場で行うことができる。ここでは、高エネルギー重イオン照射による元素ミキシングに応用した。照射試料としてBi-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$を用いた。Biは単結晶Al$$_{2}$$O$$_{3}$$基板に2.5$$times$$10$$^{-5}$$Torrの真空中で蒸着し、薄膜の厚さを50-250nmとした。最初に、照射前の試料を、16MeVのCイオンによりRBS測定を行った。次に、イオンの種類を200MeVのXeイオンに切り替え、試料に照射した。その後、再びイオンを16MeVのCイオンに切り替えてRBS測定を行った。これらの操作を繰り返し行うことにより元素ミキシングの量とXeイオンの照射量との関係を評価した。RBS測定の結果、照射量が1$$times$$10$$^{14}$$/cm$$^{2}$$まではRBSスペクトルの変化の照射量に対する依存性が確認された。

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