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O-BO
-SiO glass plate with bearing NiO for heat center and structural probe富田 夏奈*; 岸 哲生*; 松村 大樹; 矢野 哲司*
Journal of Non-Crystalline Solids, 597, p.121891_1 - 121891_10, 2022/12
被引用回数：1 パーセンタイル：14.66(Materials Science, Ceramics)NaO-BO-SiO glass plate phase separated in spinodal was partially remelted and homogenized by laser heating. As heat generation source, 0.8 mol% NiO was added to absorb continuous-wave laser with 
=1064 nm. After acid leaching, borate phase with NiO was remaining partially in laser irradiated area. X-ray Absorption Fine Structure (XAFS) spectra revealed that Ni
in laser irradiated area showed coordination change from 6 coordinated octahedral to 5 coordinated in square pyramid along with apparent color change from green to brown. Similar change was observed in water-quenched specimen from 1000
C. Ni transition gave additional structural information in phase separate / homogeneous glass, which was difficult to be distinguished by spectroscopy which focuses on covalent bonding of glass network.
栗原 モモ*; 保高 徹生*; 青野 辰雄*; 芦川 信雄*; 海老名 裕之*; 飯島 健*; 石丸 圭*; 金井 羅門*; 苅部 甚一*; 近内 弥恵*; et al.
Journal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry, 322(2), p.477 - 485, 2019/11
被引用回数：2 パーセンタイル：21.58(Chemistry, Analytical)福島県の淡水に含まれる低レベル溶存態放射性セシウム濃度の測定に関する繰り返し精度と再現精度を評価した。21の実験施設が5つの異なる前濃縮法(プルシアンブルー含浸フィルターカートリッジ,リンモリブデン酸アンモニウム共沈,蒸発,固相抽出ディスク、およびイオン交換樹脂カラム)によって10L試料3検体を前濃縮し、放射性セシウム濃度を測定した。全
Cs濃度測定結果のzスコアは
2以内で、手法間の誤差は小さいことが示された。一方で、各実験施設内の相対標準偏差に比べて、施設間の相対標準偏差は大きかった。
赤羽 温; 冨田 仁*; 小川 奏; 西岡 一*; 山川 考一
no journal, ,
光パラメトリックチャープパルス増幅時のポンプ光の位相制御によるアイドラー光の高次残留分散の補償を目指して、光パラメトリック増幅時の相互作用光(シグナル光,アイドラー光,ポンプ光)の位相を計測した。計測には最近開発された広時間域周波数シアリング干渉法を用いており、従来SPIDER等では計測が難しかったピコ秒のチャープパルスの位相も容易に直接計測可能である。計測ではポンプ光位相変調によるアイドラー分散の変化も観測され、能動的ポンプ光位相制御によるアイドラー光高次分散補償が実現可能であることがわかった。
赤羽 温; 小川 奏; 冨田 仁*; 西岡 一*; 山川 考一
no journal, ,
光パラメトリックチャープパルス増幅時に発生するアイドラー光をシグナル光パルス伸長に用いるのと同一の正分散媒質でパルス圧縮する新たなチャープパルス増幅手法を提案し開発を進めている。この手法を用いることにより環境の変化に強く、シンプルかつ高効率な実用的フェムト秒チャープパルス増幅レーザーの構築が可能で、屋外やレーザー加工工場のような実業,産業面での応用の進展が期待される。実証実験ではサブ100フェムト秒の圧縮アイドラーパルスを得ることに成功し、現在高次分散補償による短パルス化を進めている。
赤羽 温; 冨田 仁*; 小川 奏; 西岡 一*; 山川 考一
no journal, ,
増幅光のパルス伸張と圧縮に正分散媒質のみを用いる実用的チャープパルス増幅レーザー装置のさらなる短パルス化を目指して、ポンプ光位相変調を用いた発生アイドラー光残留高次分散補償の研究を進めている。ポンプ光はシグナル光やアイドラー光に比べ狭帯域で、既存の空間光変調器等で容易に位相制御が可能である。また一度最適な位相変調が決まればファイバーブラッグ回折格子や体積ブラッグ回折格子等の堅牢な素子で任意の位相変調を安定に印可することができるため、装置のメリットを損なうことなく高次分散補償が可能である。位相制御実験の初めの一歩として行った光パラメトリック増幅段における相互作用光の位相計測ではシグナル光分散値に対して符号反転しないはずの3次分散が負に反転し、反転するはずの4次分散が反転せず正のままであるなど、ポンプ光位相変調の影響を示唆する実験結果が得られている。
