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particle impinging on Al at 230 MeV/u古田 稔将*; 魚住 祐介*; 山口 雄司; 岩元 洋介; 古場 裕介*; Velicheva, E.*; Kalinnikov, V.*; Tsamalaidze, Z.*; Evtoukhovitch, P.*
Journal of Nuclear Science and Technology, 61(2), p.230 - 236, 2024/02
被引用回数:1 パーセンタイル:15.37(Nuclear Science & Technology)230MeV/u
粒子のAl標的入射実験によって
粒子のフラグメンテーション反応による荷電粒子生成の研究を行った。Si検出器と結晶シンチレータからなるカウンターテレスコープを用いて、p, d, t,
He、及び
He各粒子の生成二重微分断面積を放出角15
-60
について測定した。取得データをより低い入射エネルギーの測定データと比較し分析した結果、(1)前方角の高エネルギー領域では陽子と中性子の放出スペクトルが類似している、(2)低入射エネルギー実験と同様に
粒子の分解で生じたtと
Heの収量の比は1:2である、(3)
Heと
粒子の幅広いピークの分布は入射
粒子と標的原子核との衝突過程によって説明できるという一般的な特徴を見出した。