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青山 高士; 加藤 千明
no journal, ,
合金化Cuは、ステンレス鋼の孔食発生後の孔食の成長を抑制することが知られている。ステンレス鋼マトリックスから溶出したCuは、ピット内に形成される酸性塩化物環境においてインヒビターとして作用する。このCu
はピット内の活性な溶解速度を抑制する。この抑制効果は、隙間腐食を促進する活性溶解にも有効であると考えられる。したがって、外部から隙間内部にCu
を導入することができれば、導入したCu
はステンレス鋼の隙間腐食を抑制することができると考えられる。しかし、隙間の内外間のイオンの拡散はその形状により制限され、電気陰性度の原理によりCu
は隙間内部へ移行しないことがわかった。[Cu (EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid))]
は負の電荷を持つCu
をキレートしたものであり、電気化学的移動により外側から隙間の内部に移動することが期待される。また、[Cu(EDTA)]
中のCu
は低pH
では容易にFe
で置換されることが報告されている。したがって、Cu
は[Cu(EDTA)]
として隙間内部に導入され、ステンレス鋼の隙間腐食に影響を及ぼすと考えられる。本研究では、隙間腐食に及ぼす[Cu(EDTA)]
の影響を解析するために、隙間内部
のその場観察を実施した。