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松岡 伸一*; 山川 考一
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1, 37(11), p.5997 - 6000, 1998/11
被引用回数:4 パーセンタイル:23.95(Physics, Applied)我々は広帯域バンド幅、極短パルス増幅のモデルを開発した。このモデルは、チタンサファイア結晶をレーザー媒質として用いたレーザー増幅器における、再生パルス整形(regenerative pulse shaping)、利得狭帯化(gain narrowing)、利得飽和(gain saturation)の効果を含んだチャープパルス増幅の計算手法である。このモデルにより、再生パルス整形法すなわち薄膜エタロン板を用いることによって利得狭帯化及び利得飽和の両方の制御が可能であることを示した。さらに、ピーク出力100TW、パルス幅サブ20fsのレーザーパルスを高効率で発生可能なチタンサファイア増幅システムの最適設計を行った。