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Hegazy, EI-Sayed A.*; 貴家 恒男; 瀬口 忠男
Polymer, 33(14), p.2911 - 2914, 1992/00
被引用回数:25 パーセンタイル:71.87(Polymer Science)真空中で線照射したポリエーテル・エーテル・ケトン(PEEK)のガラス転移温度、結晶化温度、結晶化熱、融解温度、融解熱などの変化を示差走査熱量計(DSC)法で測定し解析した。また、DSC中で等温結晶化挙動の検討をあわせて行った。一連の実験から、PEEKは真空中照射により架橋を起こすポリマーであることが熱測定からも明らかとなり、同時に照射することにより結晶化速度を低下させ、遅い冷却速度でも非晶状態の材料を得るための基礎データが得られた。
島田 真知子*; 中村 好雄*; 日馬 康雄; 松田 修; 田村 直幸; 景山 英一
繊維学会誌, 30(5-6), p.299 - 304, 1974/05
線を照射したセルロースI,IIおよび非晶化セルロースの活性種について、ESR法により研究した結果、次の結論に達した。(1)線照射セルロースIおよびIIに生成されるラジカルはほぼ同種類のものである。(2)セルロースIおよびIIの典型的な結晶領域に生成されるラジカルは異方性を示し、-Hの関与が考えられる。(3)非晶化セルロースには線照射によって2種類のラジカルが生成される。1つは、Cの水素がとれたものであり、他は主として主鎖切断によると考えられるアルコキシラジカルと推定される。(4)セルロースの典型的な非晶領域に生成されたラジカルと、典型的な結晶領域に生成されたラジカルによる合成スペクトルは、水に対してaccessibleな領域に生成されたラジカルの与えるスペクトルと類似する。(5)線照射によって生成されるラジカルは、セルロースの典型的な非晶領域に偏在する。