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Brazhkin, V. V.*; Akola, J.*; 片山 芳則; 小原 真司*; Kondrin, M. V.*; Lyapin, A. G.*; Lyapin, S. G.*; Tricot, G.*; Yagafarov, O.
Journal of Materials Chemistry, 21(28), p.10442 - 10447, 2011/07
被引用回数:17 パーセンタイル:48.01(Chemistry, Physical)POは高い吸湿性を持つ典型的なガラス形成酸化物である。われわれは超高圧下でPO融体を急冷することで、通常よりも12%も高い密度を持つガラスを作ることに成功した。このガラスは吸湿性が少なく、数週間空気中で安定である。この新しい形態のガラスの構造解析によって、ガラス中のナノ空孔の体積が減少していることが明らかになった。
鈴谷 賢太郎; 小原 真司*; 高田 昌樹*; 大野 英雄*; Akola, J.*
no journal, ,
われわれはこれまで逆モンテカルロシミュレーション法を用いて高エネルギーX線回折,パルス中性子回折データに基づいた酸化物ガラスの中距離構造を解明し、そのガラス形成能との関係を調べてきた。ガラス形成能を考えるには、ネットワーク形成物質の役割を原子の3次元配列(構造)において調べることが重要であるが、今回、その特徴を原子配列中のvoidの分布として捉え、ガラス形成能との関係を調べた。本研究で用いた高エネルギーX線回折のデータは、SPring-8の高エネルギーX線回折ビームラインBL04B2で、中性子回折のデータは、アルゴンヌ国立研究所のパルス中性子施設IPNSに設置された分光器GLADを用いて測定された。逆モンテカルロシミュレーションはプログラムコードRMCAを用いて解析した。Void解析の結果、SiOガラスには体積比率で約30%ものvoidが存在していることがわかった。またここで観測されたVoidの形は非対称で非常にいびつな形をしている。このvoidの形状及び分布がネットワーク修飾物質の添加によってどのように変化するのかを詳細に調べ、void分布とガラス形成能との関係を議論した。