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口頭

フッ素系高分子からなるイオン穿孔膜の作製; エッチング前処理と高LETビーム照射による高感度化

浅野 雅春; 八巻 徹也; Nunung, N.*; 越川 博; 箱田 照幸; 澤田 真一; 長谷川 伸; 前川 康成

no journal, , 

フッ素系高分子の一種であるポリフッ化ビニリデン(PVDF)からなるイオン穿孔膜を高感度で作製するために、厚さ25$$mu$$mのPVDF膜に対し、2.3GeV $$^{208}$$Pb, 450MeV $$^{129}$$Xe, 520MeV $$^{84}$$Kr, 388MeV $$^{58}$$Niイオンなどの高LETイオンビーム照射を行うとともに、室温下で0.25M KMnO$$_{4}$$水溶液,純酸素,オゾン(濃度745ppm、残りは酸素)などの種々の酸化環境への曝露というエッチング前処理が穿孔形成に及ぼす効果を調べた。$$^{129}$$Xeイオンを照射後に80$$^{circ}$$Cの9M KOH水溶液を用いてトラックエッチング速度を評価した結果、オゾンによる処理がエッチング加速に有効であることがわかった。

口頭

レーザー誘起反応と物質改質

端 邦樹; 勝村 庸介*; 工藤 久明*; 山下 真一*; 上田 徹*; 中園 祥央*; 岩松 和弘*; Yo, S.*; 岡屋 慶子*; 雨宮 拓也*; et al.

no journal, , 

福島第一原子力発電所の事故後の対応で、炉内や使用済燃料プールへの海水注入の措置が取られた。これにより原子炉やプールの構造材はこれまでに想定されてこなかった腐食環境にさらされたことになる。放射線場にある海水の腐食環境を見積もるためには、ラジオリシス計算が有効な手段であるが、これには放射線誘起反応の速度定数や化学種の初期収率などの入力パラメータが必要となる。本研究では、塩素イオンとOHラジカルとの反応に焦点を当て、フラッシュフォトリシス法により反応速度定数の測定を行った。

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