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馬場 祐治; G.Dujardin*; P.Feulner*; D.Menzel*
表面科学, 13(5), p.244 - 248, 1992/07
白金(111)単結晶表面に吸着したアルゴン及びクリプトンに関し、電子衝撃による正イオンの脱離挙動を10~120eVのエネルギー範囲で調べた。Arの脱離が起こるための照射エネルギー閾値は83eVであり、これはArの生成及びそれに伴うArArからArr又はArArへの遷移による隣接イオンのクーロン反発力により説明できる。一方、Ar及びArの脱離は24.2,25.4,34及び50eVに閾値が認められた。最初の2つの閾値は、それぞれ、表面及びバルクのエキシトン(励起子)対の生成に対応する。脱離のエネルギー閾値及び脱離強度の吸着層依存性の解析により、エキシトン対生成による脱離の機構について議論した。
馬場 祐治; G.Dujardin*; P.Feulner*; D.Menzel*
Physical Review Letters, 66(25), p.3269 - 3272, 1991/06
被引用回数:24 パーセンタイル:78.31(Physics, Multidisciplinary)固体アルゴン及びクリプトンからのAr、Ar、Ar及びKrイオンの電子衝撃脱離(ESD)挙動を10~120eVの照射エネルギー範囲で調べた。脱離に必要な照射エネルギーのしきい値は、Ar及びArで24.2eV、Krで30eVであった。またArはArの生成に対応する84eVにおいて初めて脱離する。Arの脱離では、24.2eV、25.4eV、34eV、50eVに共鳴構造が認められた。前者2つの構造は、表面及びバルクに存在する隣接する2原子のエキシトン生成に対応する。25.4eVの脱離ピーク強度の厚み依存性を調べたところ、バルクのエキシトン対の拡散は、100層以上にも及ぶことが明らかとなった。
W.Wurth*; J.Stoehr*; P.Feulner*; X.Pan*; K.R.Bauchspiess*; 馬場 祐治; D.Menzel*
Physical Review Letters, 65(19), p.2426 - 2429, 1990/11
被引用回数:222 パーセンタイル:97.66(Physics, Multidisciplinary)白金(III)面に物理吸着、化学吸着した酸素分子の結合状態、立体構造及び磁気的性質を放射光を用いたX線吸着端微細構造(NEXAFS)により調べた。物理吸着、化学吸着いずれの場合も、O分子は表面に平行に吸着していることがわかった。化学吸着では、軌道と表面の相互作用が強いため、0-0間の原子間距離が、物理吸着酸素に比べ約0.16長いことが明らかとなった。