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論文

Preparation of anatase and rutile thin films by controlling oxygen partial pressure

Syarif, D. G.; 宮下敦巳; 八巻徹也; 住田泰史*; Choi, Y.; 伊藤久義

Applied Surface Science, 193(1-4), p.287 - 292, 2002/06

https://doi.org/10.1016/S0169-4332(02)00532-9

被引用回数：91 パーセンタイル：93.63(Chemistry, Physical)

レーザ蒸着(PLD)によりガラス基板上二酸化チタン()薄膜を作製した。結晶構造,表面構造,光触媒性能の酸素分圧依存性をX線回折(XRD),原子間力顕微鏡(AFM),UV-VIS分光計で求めた。基板温度773Kの条件で酸素分圧の増加により、表面構造は平坦から粗い構造へと変化し結晶構造はルチルからアナターゼへと変化した。酸素分圧調整の結果、表面構造の変化とアナターゼ構造生成により光触媒性能は向上した。