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Y.S.Soebianto*; 勝村 庸介*; 石榑 顕吉*; 久保 純一*; 浜川 諭*; 工藤 久明; 瀬口 忠男
Radiation Physics and Chemistry, 48(4), p.449 - 456, 1996/00
被引用回数：12 パーセンタイル：69.53(Chemistry, Physical)高分子のモデル化合物として液体炭化水素のヘキサデカン(C
H
)とスクアラン(C
H
)を選び、ガス発生・酸素消費・酸化生成物の分析により、ガンマ線照射による酸化を調べた。主なガス生成物は水素であった。酸素の消費量は固体炭化水素の場合よりも低く、酸化反応が連鎖的には進んでいなかった。消費された酸素の90%以上が、カルボン酸に転化していることがわかった。添加剤を加えた時の酸素消費量の変化から、液体炭化水素の酸化は、ポリマーの非晶部分の酸化をよく表していることがわかった。
Y.S.Soebianto*; 楠畑 勇*; 勝村 庸介*; 石榑 顕吉*; 久保 純一*; 浜川 論*; 生明 清*; 工藤 久明; 瀬口 忠男
JAERI-Conf 95-003, 0, p.96 - 100, 1995/03
液相パラフィン及びポリプロピレンについて、放射線誘起酸化を
線照射による生成物分析で解析した。酸素の物質収支と物性測定から酸化反応機構を考察した。また、酸化防止剤や耐放射線性助材の効果を調べて、放射線のエネルギー移動と酸化の連鎖反応に対する添加物の効果を解析した。
Y.S.Soebianto*; 楠畑 勇*; 勝村 庸介*; 石槫 顕吉*; 久保 純一*; 工藤 久明; 瀬口 忠男
Polym. Degrad. Stab., 50, p.203 - 210, 1995/00
被引用回数：30 パーセンタイル：77.30(Polymer Science)ポリプロピレン(pp)の放射線劣化に対する酸化防止剤と耐放射線助剤の効果を分解ガスの分析と力学特性の変化から検討した。真空中照射では添加剤がエネルギー移動の作用によりppの劣化を押えることが定量的に求められた。
Y.S.Soebianto*; 吉井 文男; 幕内 恵三; 石垣 功
Angewandte Makromolekulare Chemie, (2484), p.159 - 168, 1987/00
被引用回数：8 パーセンタイル：45.25(Polymer Science)低結晶化度のポリ(4-メチルペンテン-1)(TPX)へアクリル酸(AAC)に比べ分子鎖の長い2-ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)とメトキシテトラエチレングリコールメタクリレート(M4G)の前照射法によるグラフト重合を行った。グラフト速度は、分子鎖が短いほど速かった(AAC
HEMAM4G)。照射条件による重合速度の影響では、真空中線照射空気中電子線照射空気中線照射の順であった。これはラジカル濃度に対応し、ラジカル濃度が高いほどグラフト速度は大きかった。グラフトポリマーの含水率は、同じグラフト率で比較してもグラフトモノマーにより異なり、AACM4GHEMAの順であった。AACの場合は、分子鎖が短いためにフィルムの中まで十分拡散し、均一にグラフト重合が起こるために含水率が高いものと考えられる。
Y.S.Soebianto*; 吉井 文男; 幕内 恵三; 石垣 功
Angewandte Makromolekulare Chemie, (2483), p.149 - 158, 1987/00
被引用回数：8 パーセンタイル：45.25(Polymer Science)エチレンとプロプレンの組成の異なるエチレン-プロピレンゴム(EPR)へのアクリ酸(AAC)の空気中電子線による前照射グラフト重合を行った。グラフト率は生成したラジカルが不安定なために前報のポリ(4-メチルペンテン-1)に比べると極めて低かった。反応液AACと水の中にアルコールを添加するとホモポリマーの生成が抑制でき、グラフト率が増加した。グラフト率はプロピレン含有率により大きく異なり、プロピレン量の増加とともにグラフト率は低下した。この結果は生成したラジカルの安定性と良く対応し、グラフト重合が起きやすいEPRほどモノマーを添加する前のラジカル濃度が高かった。生成したラジカル種は、照射直後は、アルキルラジカルとパーオキシラジカルの二種であるが、昇温とともにアルキルラジカルは急激に減少し、パーオキシラジカルのみが残った。
Y.S.Soebianto*; 吉井 文男; 幕内 恵三; 石垣 功
Angewandte Makromolekulare Chemie, 149(2413), p.87 - 99, 1987/00
被引用回数：11 パーセンタイル：53.92(Polymer Science)結晶化度の異なるポリメチルペンテン(TPX)に種々の条件下でアクリル酸をグラフト重合した。真空中前照射によって生成したラジカルは真空中前照射のパーオキシラジカルよりも著しく安定であった。結晶化度の高い試料(34%)は真空中照射のみグラフト重合を起した。低結晶化試料(24%)では真空中,空気中いずれでもグラフト重合が起きた。グラフト重合の初期速度は、低結晶化試料の方が高結晶化試料よりも速い。XMAより低結晶化試料においては、グラフト反応が反応時間とともに試料表面から内部へ進み、反応時間の長い試料は内部まで均一にグラフト重合が起きた。一方、高結晶化試料では、表面からわずかに入ったところまでしかグラフト反応は進まなかった。
