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論文

イチゴ葉片へのイオンビーム照射による萎黄病耐性変異体の誘導

世取山 守*; 高野 純一*; 生井 潔*; 吉原 亮平; 野澤 樹; 長谷 純宏; 鳴海 一成

JAEA-Review 2010-065, JAEA Takasaki Annual Report 2009, P. 71, 2011/01

栃木県が育成したイチゴ品種「とちおとめ」は、作付面積が全国一であり、優れた果実品質を有するが、最重要病害の萎黄病に罹患性であるため、生産者から耐病性品種の育成が強く望まれている。本研究では、イオンビームを用いて「とちおとめ」の萎黄病耐病性個体を作出することを目的とした。現在までに、萎黄病耐病性検定まで終了した供試葉片は1828葉片であった。選抜の結果、対照の多芽体由来「とちおとめ」に比較して発病程度の軽かった1Gy照射区の2個体、2.5Gy照射区の1個体の計3個体を選抜した。

口頭

イオンビーム照射によるイチゴ品種「とちおとめ」の萎黄病耐病性個体の作出; 再分化率と菌接種による選抜状況

世取山 守*; 高野 純一*; 生井 潔*; 吉原 亮平; 野澤 樹; 長谷 純宏; 鳴海 一成

no journal, , 

栃木県が育成したイチゴ品種「とちおとめ」は、作付面積が全国一であり、優れた果実品質を有するが、最重要病害の萎黄病に罹患性であるため、生産者から耐病性品種の育成が強く望まれている。本研究では、イオンビームを用いて「とちおとめ」の萎黄病耐病性個体を作出することを目的とした。現在までに、萎黄病耐病性検定による簡易選抜を行い、照射1, 2回目では、対照の多芽体由来「とちおとめ」に比較して発病程度の軽かった1Gy照射区の2個体、2.5Gy照射区の1個体の計3個体を選抜した。また、照射3, 4回目では、0.5Gy照射区の5個体、2.5Gy照射区の2個体の計7個体を選抜した。

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