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口頭

イオン(H$$^+$$, Bi$$^+$$)照射及びアルカリ処理が及ぼす水素吸蔵合金の電気化学的水素吸収速度への影響

中島 大斗*; 青根 茂雄*; 阿部 浩之; 内田 裕久*

no journal, , 

水素吸蔵合金の材料改質として、われわれは過去にフッ化水素(HF)処理や水酸化カリウム(KOH)、水酸化リチウム(LiOH)そして水酸化ナトリウム(NaOH)による強アルカリ処理を行ってきた。またそれとは別に軽イオン照射による表面改質も行ってきた。本研究では、過去の処理条件と比べて重イオン(Bi$$^+$$)を用いたイオン照射が水素吸蔵合金Mm(Ce$$_{0.65}$$La$$_{0.35}$$)Ni$$_5$$(Ni$$_{3.48}$$Co$$_{0.73}$$Mn$$_{0.45}$$Al$$_{0.34}$$)の水素吸収特性に及ぼす影響について調べた。さらにそのイオン照射後に従来行われてきたアルカリ処理も行い、水素吸蔵初期反応速度の変化について調べた。結果として、重イオン照射の方が軽イオン照射に比べ、表面近傍で多量な欠陥を生成するため、より大きな表面改質がなされ水素吸蔵能の向上に寄与することが判明した。さらに照射後にアルカリ処理を施すことで、さらに初期吸蔵速度が速まることも判明した。

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