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論文

Electrical insulation and conduction coating for fusion experimental devices

小野塚正紀*; Tsujimura, Seiji*; 豊田真彦*; 井上雅彦*; 阿部哲也; 村上義夫

Fusion Technology, 29(1), p.73 - 82, 1996/01

https://doi.org/10.13182/FST96-A30657

被引用回数：9 パーセンタイル：61.99(Nuclear Science & Technology)

核融合実験装置へ適用可能な電気絶縁性および導電性を有する膜の大面積コーティング技術の開発を行った。ここでは、コーティング手法として、大面積コーティングが可能な溶射法をとりあげた。電気絶縁膜としては、Al $_{2}$ O $_{3}$ (アルミナ)膜を、導電性膜としては、Cr $_{3}$ C $_{2}$ -NiCrおよびWC-NiCr膜をそれぞれ選択した。これらの電気絶縁性および導電性膜をSUS基板上にコーティングし、膜の密着性, 耐熱衝撃性, 電気抵抗, 絶縁耐電圧および熱伝導率を測定した。その結果、核融合装置用として使用できる充分な電気絶縁性および導電性を有していることがわかった。

論文

Development of electrical insulation and conduction coating for fusion experimental devices

小野塚正紀*; 辻村誠一*; 豊田真彦*; 井上雅彦*; 阿部哲也; 村上義夫

Fusion Technology 1994, Vol.1, p.803 - 806, 1995/00

https://doi.org/10.1016/B978-0-444-82220-8.50168-0

核融合装置では、真空容器に発生する電磁応力を低減するため、あるいは接触電位を安定化するために炉内構造物等に電気絶縁性や導電性を付与する必要がある。ここでは、上記性質を付与する方法として、プラズマ溶射法による絶縁膜および導電膜のコーティングを試みたので、その結果を報告する。電気絶縁および導電材として、それぞれAl $_{2}$ O $_{3}$ およびCr $_{3}$ C $_{2}$ 膜をSuS基板上にコーティングし、電気的性質や耐摩耗性等を調べた。その結果、これらコーティング膜および手法によって大型構造物に電気絶縁性および導電性を付与することが充分に可能であることがわかった。

口頭

カルボキシメチルセルロースゲルの生分解性評価

三戸部格*; 粕谷健一*; 三友宏志*; 長澤尚胤; 吉井文男; 石井成明*; 井上義夫*

no journal, ,

カルボキシメチルセルロース(CMC)の放射線架橋により作製した生分解性ゲルは、優れた吸水性を有するためにさまざまな応用が検討されているが、CMCゲルの生分解性についてはほとんどわかっていない。使用後の廃棄処理としてコンポスト化処理するため、CMCゲルの生分解性を調べ、その分解微生物の同定を行った。一般土壌試料を微生物接種源とし、CMCゲルを唯一の炭素源として液体集積培養し、CMC寒天培地上でコロニー形成後、その周辺部にクリアーゾーンを形成した菌をCMCゲル分解菌と判断し単離した。その単離株を同定するために、16SrDNA解析,生理・生化学的同化テスト,酵素プロファイルテスト等を行った。単離したCMCゲル分解菌10株の内、NKCM7206株は、ゲル分率の違いによらずほぼ100%ゲルを分解し、結晶セルロースも分解するくらい分解能が高いことがわかった。16SrDNA解析よりNKCM7206株はと98.9%の相同性を示し、両株の生理・生化学的同化テストや酵素プロファイルテスト結果でも、ほぼ同一で同様の酵素群を分泌し、と近縁な種であることがわかった。一般土壌からCMCゲル分解菌を単離・同定できたので、CMCゲル使用後の廃棄処理として同株を使用することによって簡単にコンポスト化処理できる見通しを得た。