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鴇田 駿*; 門井 浩太*; 青木 聡; 井上 裕滋*
Corrosion Science, 175, p.108867_1 - 108867_8, 2020/10
被引用回数：21 パーセンタイル：81.21(Materials Science, Multidisciplinary)本研究の目的は、溶接金属の耐食性を電気化学的手法によって評価し、微細組織と耐食性の関係について議論することである。耐粒界腐食性および耐孔食性をそれぞれ電気化学的再活性化率(EPR)試験および孔食電位測定を用いて測定した。再活性化率および孔食電位はそれらの化学成分と対応した。CrおよびMoをより多く含有した試料はより高い耐食性を示した。EPR試験では相対的にCr濃度が低いデンドライトコア部が腐食した。孔食電位測定では、Nb炭化物が孔食の起点となり、孔食はデンドライトセル組織に沿って進展した。
鴇田 駿*; 門井 浩太*; 青木 聡; 井上 裕滋*
no journal, ,
本研究では、オーステナイト系ステンレス鋼の溶接金属の組織形態および耐食性を評価し、溶接部の特性および信頼性向上のための基礎的な知見を得ることを目的とした。耐食性の評価として、電気化学再活性化率試験および孔食電位測定を行った。各試料の再活性化率を比較すると、CrやMoを多く含んだ試料において耐粒界腐食性の向上が見られた。また、Ni量による再活性化率への影響は見られなかった。いずれの試験片においても、電気化学再活性化率試験によりデンドライトセルに沿ってエッチングされた組織が観察される。孔食指数と孔食電位の関係を調査したところ、全体的な傾向としては孔食指数の高い試料ほど孔食電位が高い傾向が得られた。
青木 聡; 門井 浩太*; 井上 裕滋*
no journal, ,
本研究の目的は、溶接金属の耐食性を電気化学的手法によって評価し、微細組織と耐食性の関係について議論することである。耐粒界腐食性および耐孔食性をそれぞれ電気化学的再活性化率(EPR)試験および孔食電位測定を用いて測定した。再活性化率および孔食電位はそれらの化学成分と対応した。CrおよびMoをより多く含有した試料はより高い耐食性を示した。EPR試験では相対的にCr濃度が低いデンドライトコア部が腐食した。孔食電位測定では、Nb炭化物が孔食の起点となり、孔食はデンドライトセル組織に沿って進展した。
